吴半秋博士应秦高梧教授和祁阳教授邀请与材料各向异性与织构教育部重点实验室和理学院材料物理与化学研究所的部分师生交流
吴半秋博士向母校捐赠了三本高技术领域的技术书籍和记述了个人曲折而丰富的人生传记
吴半秋博士和在校大学生交流
3月13日，我校77级有色系重金属冶炼专业毕业生、美国应用材料公司光掩膜与ＴＳＶ蚀刻部首席技术官吴半秋博士来校访问。校友总会副秘书长王晓英等陪同参观。
吴半秋博士应秦高梧教授和祁阳教授邀请，向材料各向异性与织构教育部重点实验室和理学院材料物理与化学研究所的部分师生做了关于“光掩模刻蚀技术的现状及挑战”的学术报告。吴半秋博士首先介绍了光刻技术的发展背景和目前国际上的一些新的工艺技术。他还特别介绍了下一代的光蚀刻技术，并重点讨论了EUV光刻技术。他认为EUV可以很好的解决分辨率的问题并很可能会使该领域带来一次飞跃，同时他还指出完全实现EUV技术的工业化应用还需要克服许多问题。讲座结束后，吴半秋博士和与会的师生进行了热烈的讨论，针对光刻技术的前景以及目前光刻技研究中出现的科研难题做了详细的交流和探讨。
吴半秋博士向母校捐赠了由美国麦格劳－希尔（McGraw-Hill）公司出版的《3D IC Stacking Technology》、《Extreme Ultraviolet Lithography》、《Photomask Fabrication Technology》三本高技术领域的技术书籍和记述了个人曲折而丰富的人生传记《走出懦弱》，希望能对母校师生了解尖端技术有所帮助。校图书馆副馆长郭伟代表学校接受了捐赠并向吴半秋博士赠送了捐赠赠书，以示对校友的感谢。